盛美上海清洗电镀设备双突破 市占率全球领先
券商披露研报指出,盛美上海新设备竞争力持续提升。研报认为,公司半导体清洗设备全球市占率达8.3%位居第四,国内市场第二,国产份额超过60%。高温SPM清洗方案取得重大突破,为GAA工艺和DRAM/HBM量产提供良率保障,SAPS技术清洗设备获得国内外多家头部客户订单,Tahoe设备完成工艺验证达到国际领先水平,高温单片SPM设备获批量订单,真空负压面板级清洗技术已在境内大客户量产并通过验收,同时境外510×515mm面板级设备也顺利交付。 研报指出,在电镀设备领域公司全球市占率9.6%位列第二,已交付2000电镀腔设备,成功开发先进封装、三维TSV及高速电镀设备,填补国内空白并形成批量销售,CoWoS大铜柱电镀解决方案获得客户广泛认可。此外PECVD、炉管、涂胶显影等设备竞争力也在快速提升,首台PECVD SiCN设备出机并在TEOS和SiN工艺上取得突破,常压氧化炉和LPCVD炉管逐步在晶圆厂验证放量,ALD和KrF涂胶显影设备验证进展顺利。 研报认为,这些核心技术突破和订单落地,将显著推动公司未来业绩增长。基于行业景气度提升,研报上调预测,预计26-28年归母净利润分别为17.90亿、22.58亿和28.99亿元,按可比公司估值给予369.72元目标价,维持买入评级。公司在半导体设备国产化进程中的竞争力持续增强,市场空间正不断打开。 中财网
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