国产高端光刻设备领域再次实现突破-更新中

时间：2025年11月26日 11:00:27 中财网

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 3  芯上微装首台350nm步进光刻机正式发运 国产高端光刻设备领域再次实现突破

　　11月25日，上海芯上微装科技股份有限公司(AMIES)再传捷报：公司自主研发的首台350nm步进光刻机(AST6200)正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场，标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破。(人民财讯)

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