ASML二季报超预期 AI驱动光刻机两年扩产
一份研报观点认为,AI需求推动先进逻辑及DRAM客户加快扩产,是本季业绩超预期的主因。研报指出,公司计划2026年交付约65台Low-NA EUV和约130台浸没式DUV,2027年两类产能均增加约30%,并上调全年营收指引至430-450亿欧元,毛利率升至54%-56%。 研报认为,先进制程如3nm、2nm快速推进以及DRAM供需紧张带来的晶圆厂扩产,将带动2026年先进逻辑系统销售收入增长超25%,存储相关收入增长超75%。EUV仍是主要收入来源,High-NA EUV在客户验证顺利,产品组合优化有望提升ASP和毛利率。 基本面来看,AI资本开支强劲趋势下,ASML作为光刻机核心供应商,未来两年设备交付持续放量,业绩增长确定性较高。这一系列积极信号显示半导体设备需求正进入新一轮扩张周期。 中财网
![]() |