英特尔采用ASML新一代High NA设备制造Panther Lake芯片

时间：2026年07月15日 13:40:26 中财网

　　英特尔已开始使用ASML的下一代高数值孔径High NA极紫外光刻设备，生产其旗舰Panther Lake笔记本处理器中的部分芯片。这一决定有助于英特尔更好地掌握和优化该先进工具。

　　
　　ASML表示，经过2024年启动的实验后，英特尔现已将High NA EUV设备投入使用。该设备主要用于在微芯片上刻画复杂电路图案。业界目前仍在讨论何时采用High NA工具才具有经济意义，随着芯片特征尺寸持续缩小，未来这类设备可能成为主流。

　　
　　High NA设备价格约4亿美元，是标准EUV机器的两倍，技术整合难度较高。英特尔目前仅在芯片特定层级使用该设备，以收集数据并改进工艺。该公司使用18A制程生产Panther Lake芯片，并已常规采用ASML标准EUV光刻机。

　　
　　英特尔于2024年在俄勒冈州希尔斯伯勒研发中心接收了首台High NA设备，用于开发新一代制造技术。